仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 德国Karl Suss公司
购置日期： 2012-11-06
规格型号： MA6-BSA
放置地址：玉泉校区 > 微电子楼（功率器件研究楼） > 一层 > 115
仪器管理员：孙颖
联系电话：登录后查看
双面紫外光刻机
双面紫外光刻机
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所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 德国Karl Suss公司
购置日期： 2012-11-06
规格型号： MA6-BSA
放置地址：玉泉校区 > 微电子楼（功率器件研究楼） > 一层 > 115
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| 工作时间： | 08:30-17:30 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.25 小时 |
| 最大可预约时间段： | 24 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 3 天 0 点； 普通: 3 天 0 点； 资深: 1 周 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 3 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 10 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
检测项目名称：双面紫外光刻
检测资质：无
检测单位：微纳加工中心
仪器数量：1
| 序号 | 标题 | 添加时间 |
|---|---|---|
| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | MA6光刻机可以进行双面光刻对准。适用于四英寸以下硅片、三五族易碎化合物、不规则基片、透明基片以及碎片的微加工。 |
|---|
| 主要参数： | 1.曝光波长：365nm 2.晶圆尺寸：2英寸、4英寸及不规则形状小晶圆 3.接触方式：真空接触，硬接触，软接触，接近式接触 4.对准模式：正面和背面两种对准方式 5.最小线宽： 0.7μm（真空接触方式） 6.套刻精度：1μm" |
|---|