仪器编号:登录后查看
所属平台: 其他
仪器状态:
所属单位: 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商: 美国CEE
购置日期: 2019-05-27
规格型号: APOGEE X-PRO II
放置地址:玉泉校区 > 微电子楼(功率器件研究楼) > 一层 > 115
仪器管理员:孙颖
联系电话:登录后查看
匀胶热板一体机
匀胶热板一体机
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所属单位: 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商: 美国CEE
购置日期: 2019-05-27
规格型号: APOGEE X-PRO II
放置地址:玉泉校区 > 微电子楼(功率器件研究楼) > 一层 > 115
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工作时间: | 08:30-17:30 |
---|---|
最小可预约时间段: | 0.5 小时 |
最大可预约时间段: | 168 小时 |
日历最小单位: | 0.25 小时 |
最近提前预约时间: | 未授权用户: 0小时; 普通资格用户: 0小时; 资深资格用户: 0小时 |
最远提前预约时间: | 初级: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点 |
最大有效预约次数: | 10 次/天 |
无代价撤销预约时间: | 30 分钟 |
序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
---|
检测项目名称:旋涂烘烤
检测资质:无
检测单位:微纳加工中心
仪器数量:1
序号 | 标题 | 添加时间 |
---|---|---|
暂无数据 |
仪器介绍: | 光刻胶旋涂及烘烤。适用于半导体制造,微纳米加工,传感器,MEMS,化合物,生物医疗等一切需要光刻工艺的领域。 |
---|
主要参数: | 最大可完成8英寸晶圆的匀胶烘烤,向下兼容。Windows操作系统,PC控制。密码设定保护。 匀胶机:最大转速12000 rpm,转速精度<0.2 rpm。加速范围0~30000 rpm/s。 时间设定精度0.1 s。最大9999.9 s。不均匀性<±3% @4英寸。 热板:10英寸方形, 配可编程顶针和限位孔。温度设定范围300℃,温度误差±0.3%。温度均匀性±0.5℃。 |
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