仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 美国Lesker公司
购置日期： 2012-05-14
规格型号： ALD150LX
放置地址：玉泉校区 > 微电子楼（功率器件研究楼） > 一层 > 110
仪器管理员：王妹芳
联系电话：登录后查看
ALD原子层沉积系统
ALD原子层沉积系统
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所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 美国Lesker公司
购置日期： 2012-05-14
规格型号： ALD150LX
放置地址：玉泉校区 > 微电子楼（功率器件研究楼） > 一层 > 110
仪器管理员：王妹芳
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| 工作时间： | 08:30-17:30 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.5 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
|---|
| 序号 | 标题 | 添加时间 |
|---|---|---|
| 暂无数据 | ||
| 仪器介绍： | 主要功能：用于沉积单原子层超薄膜的气相沉积设备。通过精确控制媒质的流量以及使用清除媒质，保证了一次只沉积一层指定要求的单原子层超薄膜。 可沉积Al2O3、ZnO薄膜，4寸向下兼容，最高工艺温度300℃ |
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| 主要参数： | 沉积材料：Al2O3、ZnO 工艺温度：最高350℃ 样品尺寸：4英寸向下兼容 沉积速率：Al2O3 10nm/125cycle ZnO 20nm/125cycle |
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