仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 信息与电子工程学院 > 微纳加工中心
仪器生产商： 美国CEE
购置日期： 2019-05-27
规格型号： APOGEE X-PRO II,
放置地址：超净室内103
仪器管理员：孙颖
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 06:00-22:30 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.25 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.25 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 0小时； 普通资格用户: 0小时； 资深资格用户: 0小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 3 天 0 点； 普通: 3 天 0 点； 资深: 1 周 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 10 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 30 分钟 |
| 仪器介绍： | 光刻胶旋涂及烘烤。适用于半导体制造，微纳米加工，传感器，MEMS，化合物，生物医疗等一切需要光刻工艺的领域。 |
| 主要参数： | 最大可完成8英寸晶圆的匀胶烘烤，向下兼容。Windows操作系统，PC控制。密码设定保护。匀胶机：最大转速12000rpm，转速精度0.2rpm。加速范围0~30000rpm/s。时间设定精度0.1s。最大9999.9s。不均匀性±3%@4英寸。热板：10英寸方形,配可编程顶针和限位孔。温度设定范围300℃，温度误差±0.3%。温度均匀性±0.5℃。 |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 暂无数据 | ||
