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磁控溅射沉积系统

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磁控溅射沉积系统

磁控溅射沉积系统

仪器编号:登录后查看

所属平台: 其他

仪器状态:

所属单位: 浙江大学 > 国际联合学院(海宁国际校区) > 微纳公共平台

仪器生产商: 浙江赛威科光电科技有限公司

购置日期: 2022-05-09

使用模式: 送样预约,自主预约

规格型号: SVAC-FilmLab-T400S3,靶材尺寸:2英寸

放置地址:1E105

仪器管理员:戈佳艳

联系电话:登录后查看

工作时间: 08:30-17:00
最小可预约时间段: 0.5 小时
最大可预约时间段: 168 小时
日历最小单位: 0.25 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 0小时; 普通资格用户: 0小时; 资深资格用户: 0小时
最远提前预约时间: 初级: 336 小时 0 点; 普通: 336 小时 0 点; 资深: 336 小时 0 点
最大有效预约次数: 5 次/天
无代价撤销预约时间: 1440 分钟
序号 标题 文件数量 添加时间 操作
1 磁控溅射&热蒸发镀膜系统 SVAC-FilmLab 操作说明 1 2024-04-26 16:38:07 下载
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仪器介绍:

1.溅射室极限真空度:6.7*10-5Pa;2.系统漏率:1*10-7Pa.L/s;3.溅射室烘烤照明:采用红外加热除气方式,烘烤温度:150℃;4.样品台:可加热旋转,最大4英寸样品,样品台最高的加热温度为500℃,程序控温;5.样品实现自转,转速为:0-50r/min;6.靶材尺寸:2英寸。

主要参数: 1.溅射室极限真空度:6.7*10-5Pa;2.系统漏率:1*10-7Pa.L/s;3.溅射室烘烤照明:采用红外加热除气方式,烘烤温度:150℃;4.样品台:可加热旋转,最大4英寸样品,样品台最高的加热温度为500℃,程序控温;5.样品实现自转,转速为:0-50r/min;6.靶材尺寸:2英寸。