激光诱导化学气相沉积系统

激光诱导化学气相沉积系统

  • 技术群集 其他
  • 仪器状态
  • 所属单位 浙江大学 > 材料科学与工程学院 > 半导体材料研究所
  • 仪器生产商 沈阳创一真空技术有限公司
  • 购置日期 2021-07-30
  • 使用模式 送样预约
  • 规格型号 LPCVD-300,极限真空度6X10-5Pa，真空漏率 优
  • 放置地址 玉泉校区 > 硅材料实验室2号楼 > 一层 > 111
  • 仪器管理员 李东升
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FAQ

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