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主要功能:用于沉积单原子层超薄膜的气相沉积设备。通过精确控制媒质的流量以及使用清除媒质,保证了一次只沉积一层指定要求的单原子层超薄膜。
可沉积Al2O3、ZnO薄膜,4寸向下兼容,最高工艺温度300℃