基本信息

  • 生产厂商 美国CEE
  • 资产编号 19008323_2
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  • 购置日期2019-05-27
  • 仪器价格0.00 万元
  • 仪器产地美国
  • 仪器供应商
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数最大可完成8英寸晶圆的匀胶烘烤，向下兼容。Windows操作系统，PC控制。密码设定保护。匀胶机：最大转速12000rpm，转速精度0.2rpm。加速范围0~30000rpm/s。时间设定精度0.1s。最大9999.9s。不均匀性±3%@4英寸。热板：10英寸方形,配可编程顶针和限位孔。温度设定范围300℃，温度误差±0.3%。温度均匀性±0.5℃。

仪器介绍

光刻胶旋涂及烘烤。适用于半导体制造，微纳米加工，传感器，MEMS，化合物，生物医疗等一切需要光刻工艺的领域。